Técnica permite criar padrões em nanosuperfícies irregulares

Equipe também trabalha na fabricação de superfícies com combinações de várias propriedades: autolimpeza, anticongelamento e antireflexo.

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13 Dezembro 2010 | 14h53

Visão ampliada de matrizes de nanopartículas em uma superfície de topografia irregular. Crédito: Universidade de Akron.

Visão ampliada de matrizes de nanopartículas em uma superfície de topografia irregular. Crédito: Universidade de Akron.

A nanolitografia, ou criação de padrões em superfícies em nanoescala, é algo crítico para as tecnologias modernas. Contudo, o que foi desenvolvido até então servia apenas para superfícies planas. Agora, pesquisadores da Universidade de Akron, nos EUA, descobriram um novo método que permite fazer isso em superfícies curvas ou de topografia irregular.

Nanopartículas dispostas em padrões hexagonais são amplamente utilizadas para a modelação de superfície. Mas o que a equipe queria saber é se poderia usar partículas autônomas que não se apoiariam umas nas outras. Há muitas vantagens na ideia, entre elas a possibilidade de modelar superfícies curvas ou irregulares. O desafio estava em garantir o padrão mesmo com a força lateral capilar.

A solução proposta pelos pesquisadores foi mergulhar o revestimento em uma camada de adesivo polímero. Funcionou. O método se mostrou revolucionário em termos de adaptação às características topográficas desde a escala micro até a macroscópica. A partir disso, a equipe testa a técnica em grandes superfícies e na questão de durabilidade quando submetidos a variações de temperatura ou desgaste.

Os pesquisadores estão também trabalhando na fabricação de superfícies com combinações de várias propriedades avançadas: autolimpeza, antireflexo, anticongelamento, entre outras. Isso poderia ajudar na criação de novos materiais para a construção civil, indústria de painéis solares e até mesmo aviação.

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Credit: University of Akron.
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